北方華創正式發布新品——12英寸電容耦合等離子體介質刻蝕機Accura LX，近日，適用於Low-K（低光算谷歌seo光算谷歌外鏈介電常數）介質及常規介質材料的刻蝕工藝。並可擴展到存儲領域的CMOS (互補金屬氧化物半導體)相關製程 ，Contact光算谷歌seo光算谷歌外鏈 (接觸孔)為代表的關鍵介質刻蝕製程， （文章來源：證券時報）該機台主要覆蓋光算谷歌外光算谷歌seo鏈邏輯領域多個技術節點中以AIO (雙大馬士革刻蝕工藝)、

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